简要描述：晶圆缺陷光学检测设备是由高精度光学检测显微镜搭载全自动晶圆搬运系统组成，支持4-12寸的晶圆尺寸，可轻松实现多角度、全视野的宏观检查、以及晶圆微观细节的高清捕捉，可对半导体过程工艺中的关键参数、缺陷问题进行有效监控，是晶圆来料检测和工艺控制流程缺陷分析的高效利器。

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晶圆缺陷光学检测设备是由高精度光学检测显微镜搭载全自动晶圆搬运系统组成，支持4-12寸的晶圆尺寸，可轻松实现多角度、全视野的宏观检查、以及晶圆微观细节的高清捕捉，可对半导体过程工艺中的关键参数、缺陷问题进行有效监控，是晶圆来料检测和工艺控制流程缺陷分析的高效利器。

设备兼具稳定性和安全性，能够安全可靠的传送晶圆，适合于前道到后道工程的晶圆检查一个晶圆在经过一系列复杂工序后最终变成多个IC单元，期间晶圆需要依赖搬运机在处理站之间执行快速、精确的传送作业。纳米级厚度的晶圆很容易在传送过程中损坏，而且还须确保在工序中晶圆表面不得有脏污、缺陷等。

SOPTOP拥有AWL046、AWL068、AWL812三种机型，多类配置，分别可适用于 4/6 英寸，6/8英寸、8/12英寸的晶圆检测，适应范围广、搭配灵活。

晶圆缺陷光学检测设备可自由设置的检查模式，充分符合人机工程学设计，操作舒适、简便。

一、晶圆缺陷光学检测设备应用领域：

二、360°宏观检查：

AWL系列具有宏观检查手臂，可以实现晶面宏观检查、晶背宏观检查1的360°旋转，更为容易发现伤痕和微尘。通过操作杆可随意将晶圆倾斜观察。晶面最大倾斜角度70°，晶背1最大倾斜角度90°，晶背2最大倾斜角度160°，利用旋转功能、倾斜角度，可以目视检查整个晶圆正反面及边缘。

三、人机工程学设计：

LCD 显示屏，可为操作者提供更直观的视觉体验，可清晰的显示当前检查项目及次序，调试参数一目了然。手动快速释放真空载物台可提高操作者的舒适度和工作效率。

四、精密微观检查：

采用专业半复消色差金相物镜，可满足明场、暗场、DIC、偏光等多种观察方式。全新电动控制系统，可排查 μm 级异常，诸如孔未开出，短路，断路，沾污，气泡，残留等。

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